日本分光製品情報真空紫外分光光度計 V-1000

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LSI の高集積化により製造プロセスの微細化が進み、これに伴い光リソグラフィーで使用される光源の波長も短波長にシフトし、現在では ArF レーザ（193nm）が主流となっています。さらに線幅 0.07μm の微細化対応のために F2 レーザ（157nm）の実用化研究が行われています。このためステッパに使用されるレンズやミラーなどの光学部品の真空紫外領域における光学特性を精度良く評価する必要が生じています。
V-1000 は、115nm～300nm の波長領域での光学特性評価用に作られました。真空紫外領域では酸素による強い吸収があるため、従来は光路を真空に引いて測定していましたが、V-1000 では、パージ効果を高めた筐体にすることにより窒素パージによる測定を可能にし、試料のセッティングから測定開始までを短時間で行えます。
また、ダブルモノクロメータにすることにより迷光を除去し、モニタダブルビーム方式により、測光再現性を高めています。このため 157nm において 0.03% の測光再現性を実現しています。

◆ 優れた測光再現性

◆ CaF2 の透過率測定

●	サンプルは直径 40mm、厚さ 3mm の弗化カルシウム(CaF2) です。
●	波長 157.6nm で連続 100 回の計測を計 5 測定行いました。

測定	平均透過率	標準偏差（標本数：100）
1回目	86.07%	0.025%
2回目	86.03%	0.023%
3回目	86.02%	0.023%
4回目	86.04%	0.024%
5回目	86.05%	0.025%

◆ 仕様

波長範囲 115～300 nm

測光再現性 157nm 近傍において標準偏差 : σ =0.03%以下 70%以上の透過材料に対して

分光器凹面グレーティングダブルモノクロメータ、モニタダブルビーム方式

入射角度透過率及び 5°、45°入射反射率（標準）

オプション測定絶対反射率測定、偏光測定