偏光変調高感度反射法（PM-IRRAS法）による薄膜測定

薄膜の高次機能（電気的・光学的・機械的特性など）を利用した各種工業製品が市場に広く出回っており、製品の品質向上に伴い薄膜の形成技術や評価技術についても日々進化し続けています。薄膜の特性を評価する手法の一つに分光学的手法が挙げられますが、特に赤外分光法では光学的な膜の厚みや電気特性に加え、薄膜の分子構造や分子配向に関する知見が得られます。特に高感度反射法（IRRAS法）は金属板上の厚さ数10Å程度の極めて薄い膜の分子構造解析に有効な手法です。しかしながら最近のデバイスの高性能化・高機能化に伴い、更なる高感度な分析技術の確立や薄膜形成プロセスをモニターするニーズが出てきました。そこで従来のIRRAS法と比べ高感度測定が可能な偏光変調高感度反射法（PM-IRRAS法）を利用し真空チャンバー内の薄膜形成プロセスがモニターできるシステムを開発しました。ここでは特にPM-IRRAS法を利用した薄膜測定に関するデータを示すと伴に今回開発したシステムの概要について紹介します。