膜厚測定装置
UTS-2000
膜厚測定装置UTS-2000は、最新の分光分析技術を応用し、非破壊･非接触で、高速かつ高精度にエピ膜、基板厚、エッチング残差などの膜厚を計測することができます。また標準搭載のオートステージを利用することでデバイス面内の膜厚分布を評価することも可能です。
この他に拡散層のように基板と膜の界面が不明瞭な膜厚を測定するための波長拡張、Si中の不純物軽元素の定量を行うための透過測定システム、キャリア濃度を定量するためのデータ解析ソフトなど、膜厚計測以外の測定にもオプションで対応できます。さらに自動搬送装置との組み合わせも可能であり、プロセスユースから開発･評価に至るまで幅広いニーズに対応します。
膜厚測定装置 UTS-2000シリーズの特長
広い計測レンジ
0.25～750µmに渡る広い計測レンジで膜厚（基板厚）を計測することができます。
詳しくはこちら >高精度な測定
高精度干渉計と高スループット光学系により、高精度の膜厚データを計測することができます。
効率的な測定
自動搬送装置に対応しています。
詳しくはこちら >プロセスユースに必要なFOUPオープナーやマルチロードポートにも対応
FOUP（ウェーハを格納したSEMIによって規格化された）やマルチロードポート（FOUP内のウエーハを出し入れする際のインターフェース）にも対応できます。
SEMI規格対応
SEMI規格（Semiconductor Equipment and Materials International standards）に対応することができます。
画像認識
ウエーハパターンを読み取り、測定位置を決定する画像認識にも対応することができます（ご相談ください）。
