製品情報 M series

エリプソメータ

M series
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エリプソメーター M series
日本分光のエリプソメータは、日本分光特許のPEMデュアルロックイン方式と光サーボ・光レファレンス方式を搭載し、高速性と高安定性を実現しています。偏光素子の軸配置を、極薄膜及び微小リターデーションの測定に最適化しているので、高集積化と高精細化へ進展する半導体や高機能な光学フィルム等の材料評価に有用です。

エリプソメータ Mシリーズの特長

自動波長スキャン

PEMデュアルロックイン方式(日本分光特許:第2064627号)は、波長に応じたPEMの駆動電圧を光サーボ(日本分光特許:第2081599号)で自動制御しているため、高精度で高速な波長スキャン測定が可能です。

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高速データサンプリング

PEMデュアルロックイン方式は高速な電気的変調(50kHz)であるため、偏光子の機械的回転を伴う方式に比べはるかに高速で、1msecからのデータサンプリングが可能です(ELC-300では20µsec)。

高安定性・高信頼性

PEMデュアルロックイン方式により、機械的誤差のない静的な測定系が実現しました。さらに光サーボ、光リファレンス(日本分光特許:第2672414号)の採用で高い安定性を得ています。

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高感度な薄膜分析

PEMデュアルロックイン方式は、誘電体、半導体の極薄膜に最大感度が得られる独自の偏光素子の配置を採用しており、高感度な薄膜分析が可能です。

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マルチ光源対応

焦点距離250mmのダブルモノクロメータとXeランプから構成されるモノクロ光源およびHe-Neレーザ光源を標準搭載し、簡単な操作で切り換えられます。また、半導体レーザ等のオプション光源の搭載が可能です(M-210、M-550を除く)。

交換可能なステージブロック群(M-200シリーズ)

多種多様な測定要求に対応したステージブロック群が用意してあり、ユーザーサイドでの交換が可能です。また、大型試料室を標準装備し、サブベース上をユーザーに開放しているので、様々な応用測定が可能です。

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