エリプソメータ

膜厚や膜屈折率が未知の試料に対しては、ΔΨスペクトルを測定して基板のスペクトルと重ね書きをすると測定波長の決定に役立ちます。

また、干渉によるフリンジ波形が観測されない波長域では膜表面のみからの反射光を測定しているので膜厚に関する情報は得られず、複素屈折率の情報のみが得られます。

スペクトルを保存し多層膜モデル解析ソフト（オプション）を併用すればスペクトル測定のメリットが生じ、解析力が向上します。

自動X-θマッピングステージを用い膜厚と膜屈折率の面内分布を測定します。

結果の表示にはカラーマップ、等高線図、鳥瞰図が有り、視覚的に面内分布が分ります。

4インチ基板上のシリコン酸化膜の膜厚分布を示します。平均膜厚と平均屈折率はそれぞれ902Åと2.01と得られ、共に中心部で高く、周辺部で低くなっています。計算条件を変更した膜厚値の再計算や左上図の測定点をマウスで指定して各測定点の膜厚と膜屈折率の確認ができます。

ΔΨスペクトルを測定し、試料を記述する解析モデルを建てて膜厚や屈折率スペクトルをフィッティングパラメータとして決定します。

半導体、金属、誘電体について代表的な物質のライブラリを備えており、このライブラリは測定や解析の結果を登録して順次拡張することができます。

中間層として上下2つの媒質の有効媒質近似や表面ラフネス層を導入して近似の精度を高めることができます。コーシーモデル、ドルーデモデル、Tauc-Lorentzモデルなどのモデル式を用いて屈折率スペクトルのプロファイルを拘束することにより、20層までの多層膜に対しても強力な解析が可能となります。

光学ガラスや液晶用フィルムなどが応力を受けた時に生じる小さな位相差を測定して、その勾配から光弾性定数を算出します。

セナルモン法では大きな荷重を加えなければ観測不能だった位相差を、逆正弦関数より算出するM-200シリーズでは微小な荷重で観測可能です。

ガラスでは張力と圧力と2方向の外力印加が可能ですが、フィルムの場合には張力を加えて測定します。

フィルムに対しては初期荷重、終荷重、ステップを設定した後、自動的に印加、測定、解析までを行う、光弾性測定用透過ステージとソフトウエアをオプションで用意しています。